:USHIO 牛尾(旗下 MIKASA 米卡萨)产品名称:MIKASA 接触式光刻机 Contact Aligner 产品类型:接触式 UV 光刻对准曝光设备 核心特点:接触 / 接近式紫外曝光,显微镜目视对准,将掩膜版图形转移到光刻胶,是实验室、小批量 MEMS 加工主流光刻机,可与同系列匀胶、显影、蚀刻设备成套使用。
高精度目视对准搭载双目显微镜,手动精密调节 XY、θ 角度,掩膜与基板对位操作直观,满足微纳图形对准需求,适合研发打样。
接触式曝光方式掩膜与基板贴紧曝光,分辨率*;支持接触、接近两种曝光模式,适配不同光刻工艺需求。
配套牛尾 UV 光源搭载 USHIO 紫外光源,曝光能量稳定;可搭配 UIT 系列光量计监测曝光能量,保障工艺重复性。
适配多种基板硅片、玻璃、陶瓷、柔性基板均可加工,样品尺寸灵活,高校实验室、MEMS、微流控、光学器件研发常用。
整套产线一体化和 MIKASA 匀胶机、显影机、蚀刻机组成完整微纳加工工艺链路,设备间工艺匹配度高。
✅ MEMS 微机电系统器件研发与小批量制备 ✅ 微流控芯片、光学光栅、微结构元件加工 ✅ 高校、科研所光刻工艺教学与实验 ✅ 薄膜器件、传感器芯片样品制备
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MIKASA光刻机
基础信息
:USHIO 牛尾(旗下 MIKASA 米卡萨)产品名称:MIKASA 接触式光刻机 Contact Aligner 产品类型:接触式 UV 光刻对准曝光设备 核心特点:接触 / 接近式紫外曝光,显微镜目视对准,将掩膜版图形转移到光刻胶,是实验室、小批量 MEMS 加工主流光刻机,可与同系列匀胶、显影、蚀刻设备成套使用。
核心产品亮点
高精度目视对准搭载双目显微镜,手动精密调节 XY、θ 角度,掩膜与基板对位操作直观,满足微纳图形对准需求,适合研发打样。
接触式曝光方式掩膜与基板贴紧曝光,分辨率*;支持接触、接近两种曝光模式,适配不同光刻工艺需求。
配套牛尾 UV 光源搭载 USHIO 紫外光源,曝光能量稳定;可搭配 UIT 系列光量计监测曝光能量,保障工艺重复性。
适配多种基板硅片、玻璃、陶瓷、柔性基板均可加工,样品尺寸灵活,高校实验室、MEMS、微流控、光学器件研发常用。
整套产线一体化和 MIKASA 匀胶机、显影机、蚀刻机组成完整微纳加工工艺链路,设备间工艺匹配度高。
应用场景
✅ MEMS 微机电系统器件研发与小批量制备 ✅ 微流控芯片、光学光栅、微结构元件加工 ✅ 高校、科研所光刻工艺教学与实验 ✅ 薄膜器件、传感器芯片样品制备