172nm准分子(Excimer)照射器

基础信息

：USHIO 牛尾产品名称：172nm 准分子 (Excimer) 照射器 产品类型：真空紫外 VUV 准分子光源设备 核心特点：发射 172nm 真空紫外光，可直接对材料进行光表面改性、光清洗、光氧化，无需臭氧发生器，是微纳加工、表面处理紫外光源设备。

核心产品亮点

1. 172nm 真空紫外光源USHIO 准分子光源，172nm 窄波段真空紫外，光子能量高，可直接解离氧气生成活性氧，实现基材表面清洗、改性。

2. 大面积均匀照射平面阵列光源设计，照射面光强均匀，可一次性处理大尺寸基板；光输出稳定，工艺重复性好。

3. 无臭氧外设，结构简洁依靠 172nm 光直接激发产生活性氧，不需要配套外置臭氧机，设备集成度高。

4. 工艺适配灵活可调控照射能量、照射时间，用于表面亲水改性、有机物光分解清洗、薄膜预处理，可集成到光刻产线中作为前处理 / 后处理单元。

5. 安全防护机台封闭式腔体结构，阻挡真空紫外外泄，配备安全联锁，开盖停止照射，保障操作人员安全。

应用场景

✅ 半导体、MEMS 基板表面有机物清洗 ✅ 玻璃、高分子材料表面亲水改性、提升附着力 ✅ 微流控芯片表面处理 ✅ 光学元件、薄膜的光活化处理 ✅ 光刻工艺配套基板预处理