产品核心特点

1. MP 调制脉冲电离技术融合高频正弦波与调制脉冲输出，降低正负离子复合损耗，消电速度快；支持近距离贴近晶圆基材使用，*小安装距离 150mm；输出电压、脉冲频率、离子平衡均可精细化调节，适配不同静电敏感元器件；脉冲调节区间 1‑33Hz。

2. 高洁净可更换单晶硅电极采用单晶硅放电电极，有效规避金属析出污染风险，可实现纳米级微粒管控；电极支持快速旋转拆装更换，维护作业简单，无需拆解整根风棒；5635M‑MP 版本整机无外露金属部件，适配对金属污染零容忍的特殊腔体工况。棒长 600mm 以内电极喷嘴默认 50mm 密排布置，离子覆盖均匀。

3. 自动离子平衡，低电位摆幅内置自动平衡控制电路，正常工况离子平衡稳定＜±20V；电位摆幅小，近距离使用时，降低晶圆、芯片器件遭受过压损伤风险；整机自带故障报警信号输出，可对接设备 PLC 实现状态监控与联锁。

4. 辅助吹气拓展工况可接入洁净干燥压缩空气或者氮气做吹气辅助，提升远距离除静电能力，进一步加快消电速度；气源介质必须满足车间高洁净要求。

5. 设备集成友好设计24VDC 供电，搭配外置控制器；支持软件远程参数整定；棒长覆盖 450‑2350mm 多档规格；接口集中布置，方便自动化设备布线集成。

技术参数

• 型号：AeroBar®5635 MP（含 5635M‑MP 无金属版本）

• 供电：24VDC±10%，* 0.7A

• *高压输出：13.5kV 峰峰值，连续可调

• 脉冲频率：1‑33Hz 可调，出厂默认 5Hz

• 离子平衡：自动平衡，可控工况＜±20V

• 有效工作距离：150‑1000mm

• 放电电极：可更换单晶硅电极

• 喷嘴间距：50mm、75mm；≤600mm 棒长仅 50mm

• 棒体标准长度：450‑2350mm 多规格

• 控制方式：外置控制器，软件参数调试，远程告警 IO 输出

• 使用气源：CDA 洁净干燥压缩空气、氮气（辅助吹气选配）

• 使用环境：半导体洁净车间、EFEM、设备腔体内部

应用场景

1. 半导体 EFEM 设备、晶圆传送腔体、Load‑Lock 周边，*制程晶圆静电消除。

2. 芯片封装、探针台，对金属污染、微粒管控严苛的工艺工位。

3. 面板高端制程，高洁净等级腔体内部基板除静电。

4. 各类精密自动化设备，允许近距离安装，对残余电压、微粒析出指标要求高的洁净工位。

使用注意事项

1. 单晶硅电极质地脆，拆装维护避免磕碰撞击，定期清洁电极*，粉尘堆积会劣化离子平衡与消电效率。

2. 5635M‑MP 为无金属特殊版本，采购时区分普通 5635MP 与 M 版本，不能直接互换。

3. 辅助吹气气源必须经过充分过滤干燥，油气杂质会污染电极，引入微粒污染。

4. 该型号无内置闭环反馈，如需＜±5V 高精度离子平衡，选用 5645 带反馈版本。

规格