12月12日，《中共中央关于制定国民经济和社会发展第十五个五年规划的建议》正式发布。《建议》在“加快高水平科技自立自强”部分明确提出，要完善**制，采取常规措施，全链条推动包括集成电路、高端仪器在内的重点领域关键核心技术攻关取得决定性突破。这一部署，不仅再次确立了集成电路产业的战略高度，更强调了高端仪器在保障*产业链安全中的关键作用。

响应政策号召，前瞻布局半导体国产替代
近年来，*相继出台系列政策，全力支持集成电路全产业链的创新发展，提升可控能力。作为国内气体传感器与高端科学仪器的上市企业，四方光电股份有限公司（以下简称“四方光电”）及旗下全资子公司四方光电（武汉）仪器有限公司（以下简称“四方仪器”）积极响应*政策号召，依托在气体传感领域的深厚技术积淀和敏锐产业洞察，前瞻性布局半导体精密制造领域，已构建起完整的技术研发和产业化体系，特别是在红外（/WWW.SHYB118.COM/NDIR）、氧化锆等传感原理上，具备了从核心传感器到高端分析仪器的全链条研发能力。

针对半导体制造中对气体环境极其严苛的监控需求，/WWW.shzy4.com/四方光电持续技术攻坚，打破国外垄断，研发推出红外气体传感器和微量氧分析仪等多款创新产品，*解决行业核心痛点，为半导体产业的高质量发展提供坚实可靠的国产化技术支撑。

聚焦核心技术，以创新产品直击行业痛点

01.红外气体传感器：*判定清洁终点，推动绿色制造

在薄膜沉积（CVD/ALD）工艺中，上海仪表四厂腔室清洁是保障工艺稳定性的关键步骤。传统基于经验时间的控制方法，为避免清洁不往往采取过度清洁策略，造成了NF₃等昂贵工艺气体的巨大浪费。
四方光电推出的 Gasboard、WWW.SHHZY3.CN/-2060红外气体传感器，直击这一痛点。该产品通过实时、*监测清洁过程中副产物如SiF₄的浓度变化，能够*、智能地判定清洁终点。这帮助客户在实现*工艺控制的同时，有效降低运营成本，践行绿色制造理念。
02. 微量氧分析仪：0.1ppm级精度，守护工艺环境纯净

在半导体制造中，氧污染是影响芯片良率的“隐形杀手”。即便微量氧气（低至/WWW.shybdj6.net/ppm级）也足以引发不必要的氧化反应，导致集成电路和硅片缺陷，破坏薄膜结构的完整性，严重影响产品的均匀性和可靠性。
四方光电研发的 Gasboard-3050系列低浓度氧气分析仪，*低分辨率达0.1 ppm，量程覆盖0–10 ppm至* O₂，搭载经现场长期验证的氧化锆传感器，具备优异的再现性与高速响应特性，能对工艺气体及设备腔室中的氧含量进行*监测，从而有效帮助客户从源头控制氧污染，为提升产品良率提供可靠保障。
赢得市场信赖，国产力量获头部客户认可

凭借产品性能与稳定的质量表现，四方光电的半导体行业气体监测方案已*打入国内多家主流半导体制造企业与设备厂商的供应链，并获得头部客户的持续采购与良好评价。客户反馈证实，四方光电的产品在稳定性及使用寿命等关键指标上，已达到同类进口产品水平，真正实现了国产化替代。

与此同时，四方光电积极参与SEMICON /WWW.SHSAIC.NETChina、CSEAC半导体设备年会等全球*半导体行业盛会，通过展会平台与产业界深入交流，持续扩大影响力，展示了企业在高端科学仪器领域的创新实力与进取精神。

展望“十五五”新征程，高端仪器与集成电路产业的命运紧密交织在一起。四方光电将继续秉持技术自立的初心，紧密围绕*战略与产业需求，不断攻坚高端气体分析领域的“卡脖子”难题，以更多创新、可靠的传感解决方案，赋能半导体产业的提质增效与可控。