TOFCO 四大流体设备实际应用案例

案例 1：半导体晶圆清洗产线｜ULVIT ULV 臭氧水分解装置

项目背景：8 英寸晶圆湿清洗工艺，使用臭氧纯水对晶圆表面进行氧化清洗，清洗后水体含有残留臭氧，直接循环会腐蚀后端管路、影响水质，需要在线降解臭氧，纯水回收复用。
方案：臭氧水发生器后端配套ULVIT ULV，采用 253.7nm 紫外灯瞬间分解水中溶解臭氧，可兼容含 HF 氢氟酸的臭氧水工况。
项目收益
1. 无活性炭耗材，不需要频繁更换滤芯，降低运维成本；
2. 整机紧凑，节省洁净车间宝贵空间；
3. 出水无二次溶出杂质，纯水可以循环回用，大幅减少纯水消耗与废水排放；

4. 自带灯管故障、漏水联锁报警，可接入产线 PLC 系统，保障 24h 连续生产。

案例 2：精密纯水循环管路｜RISα 氮气置换式脱氧装置
项目背景：FPD 面板工厂纯水循环管路，水中溶解氧会造成不锈钢管路氧化锈蚀，产生微小颗粒污染面板，同时溶氧会加速药液氧化变质。
方案：纯水主管加装 RISα 脱氧装置，氮气置换去除水体溶解氧。
项目收益
1. 降低水中溶氧，抑制管路锈蚀，减少固体微粒析出，提升面板良率；
2. 减少管路防腐药剂投加量，降低化学品成本；
3. 水温波动工况下脱氧性能稳定，适配产线全年连续运行。

> 配套：RISα 氮气进气管路可搭配 TOFCO THP-MD 质量流量控制器，*稳定控制氮气供给。

案例 3：调味品工厂液体自动配料灌装｜EABLE 计量自动充填装置
项目背景：日式酱料、食用油生产车间，需要多种液体原料（酱油、植物油、调味添加剂）按配方*配比投料，人工灌装计量误差大，效率低。
方案：产线部署 EABLE 计量自动充填装置，多储罐配方投料。
项目收益
1. 一键设定灌装量，到达设定容量自动停机，计量精度高；
2. 一套系统完成多种液体调配，切换配方简单；

3. 适用于食品卫生工况，方便清洗，广泛用于调味、油脂、食品添加剂灌装。

案例 4：半导体多台工艺设备集中冷却｜TCU 水冷单元
项目背景：半导体刻蚀、沉积设备，多台设备共用冷却水回路，需要集中分配冷却水、断水保护、溢水监测，一旦缺水会造成昂贵机台热损坏。
方案：采用TCU 水冷单元集中管理多路冷却水循环。
项目收益
1. 模块化泵组，可灵活扩展，统一分配冷却水；
2. 断水、溢水实时报警，联锁保护昂贵工艺设备；
3. 配套 TOFCO FC-SE 流量开关、DPF-M 差压流量计实时监测各路冷却水流量。