日本 TOFCO 四大流体设备 ULVIT ULV 臭氧水分解装置 RISα 脱氧装置 EABLE 充填装置

在半导体、精细化工、食品饮料行业的流体工艺处理领域，来自日本的 TOFCO（东富科）凭借成熟的流体控制技术，推出系统单元系列成套设备，包含 ULVIT ULV 臭氧水分解装置、RISα 氮气置换式脱氧装置、EABLE 计量自动充填装置、TCU 水冷单元，一站式解决水处理、定量灌装、设备温控等工艺难题。

ULVIT ULV 臭氧水分解装置

ULVIT ULV 采用紫外线照射原理，分解水中溶解臭氧，纯水回收再利用。设备可适配混入氟成分的臭氧水，满足纯水、纯水回路场景需求。整机结构紧凑，拆装维护简单。

在 20L/min 流量工况下，该装置可将高浓度一次侧臭氧，降解至低的出水浓度，有效降低废水处理成本，广泛应用于纯水清洗工艺的臭氧尾水处理环节。

RISα 氮气置换式脱氧装置

RISα（リス・アルファ）氮气置换式脱氧装置，依靠特殊喷嘴高效气液混合，通过氮气置换去除水体里的溶解氧。

一方面抑制管道锈蚀，另一方面减少水中固体物质析出，降低化学药剂使用量。整套系统包含空压机、氮气分离器、气液混合器、泵体等组件，组成完整水处理回路。实测数据表明，水温变化时，处理后水体溶氧始终维持在较低水平，脱氧性能稳定可靠。

EABLE 计量自动充填装置

EABLE（イーブル）计量自动充填装置由流量计与控制阀组成，设定目标流量后，自动完成液体投料与灌装作业。

设备适配植物油、酱油、酱料、各类食品添加剂等物料。操作简单，一键启动，达到设定容量自动停机。支持多储罐配方投料，可*配比多种液体原料，是食品加工行业液体灌装*设备。

TCU 水冷单元

TCU 水冷单元可集中管理产线多路冷却水回路，冷却水分配、断水报警、溢水监测等功能。模块化泵组设计，可根据产线需求灵活扩展，为多台工艺设备同步提供稳定温控，异常报警机制保障产线连续稳定运行，在半导体设备冷却场景应用较多。