- ·分享日本 NKS 中谷 FR1B...
- ·TOFCO东富科 ULVIT ULV...
- ·日本TOFCO东富科 ULVIT U...
- ·AND爱安德SV‑10A 音叉振动粘...
- ·FUJI富士电加热器CH5-220A...
- ·分析坂口电热 EMIFINE 隔热材...
- ·TOFCO 四大流体设备实际应用案例
- ·DANFOSS丹佛斯液压马达OMV3...
- ·CKD喜开理电磁阀4F620-20-...
- ·Helical弹性滑动联轴器
- ·herion海隆电磁阀S6SD501...
- ·原装全新PARKER派克滤波器HN2...
- ·堡盟编码器HS35F 01024 H...
- ·日本 TOFCO 四大流体设备 UL...
- ·TAKIGEN 泷源 K‑200GN...
供应 JEOL日本电子 IB-19550CCP 冷却式横截面抛光机
横截面抛光机™ (CP) 是一款用于电子显微镜观察的横截面样品制备设备。
它利用离子束处理样品横截面,与其他需要经验的抛光方法相比,能够在短时间内获得高质量且无个体差异的横截面。IB
-19540CP/IB-19550CCP 配备了全新的图形用户界面 (GUI) 和物联网 (IoT) 集*能,使操作和状态确认更加便捷;此外,其高通量离子源和高通量冷却系统能够快速制备出光滑的横截面。
特征
全新图形用户界面和物联网集成:用户友好的操作界面和远程控制
全新的图形用户界面使操作更加易于理解。
处理条件可按照流程图进行设置。
预设功能允许您保存和调用针对特定样品定制的处理条件。
您可以通过网络连接,使用网页浏览器访问控制中心(计算机)。
您可以查看处理状态并远程操作多台机器。
高通量离子源——标准处理速率为1200 μm/h或更高
该系统标配高通量离子源,通过优化离子源电极和提高加速电压来提高离子电流密度。
样品:硅片
;离子能量:10 keV;处理时间:1 小时
高通量冷却系统——自动冷却并恢复至环境温度。
从初始冷却到恢复至室温,整个冷却过程都是自动化的。此外,该系统还能将
液氮罐
周围区域的气体从设备内部排出,以维持冷却时间和样品温度。
它可以在-120°C下处理8小时。
通过插入和移除冷却导体来控制冷却温度,可以减少液氮的消耗。
样品可以在液氮仍在样品内部的情况下进行更换。
规格和选项
请查看我们的产品目录。
目录下载
IB-19540CP/IB-19550CCP 横截面抛光机™
-
所属分类 :JEOL 日本电子
- 发布时间 : 2026-07-03
- 详细介绍
物联网横截面抛光机™诞生了。
横截面抛光机™ (CP) 是一款用于电子显微镜观察的横截面样品制备设备。
它利用离子束处理样品横截面,与其他需要经验的抛光方法相比,能够在短时间内获得高质量且无个体差异的横截面。IB
-19540CP/IB-19550CCP 配备了全新的图形用户界面 (GUI) 和物联网 (IoT) 集*能,使操作和状态确认更加便捷;此外,其高通量离子源和高通量冷却系统能够快速制备出光滑的横截面。
特征
全新图形用户界面和物联网集成:用户友好的操作界面和远程控制
全新的图形用户界面使操作更加易于理解。
处理条件可按照流程图进行设置。
预设功能允许您保存和调用针对特定样品定制的处理条件。
您可以通过网络连接,使用网页浏览器访问控制中心(计算机)。
您可以查看处理状态并远程操作多台机器。
高通量离子源——标准处理速率为1200 μm/h或更高
该系统标配高通量离子源,通过优化离子源电极和提高加速电压来提高离子电流密度。
样品:硅片
;离子能量:10 keV;处理时间:1 小时
高通量冷却系统——自动冷却并恢复至环境温度。
从初始冷却到恢复至室温,整个冷却过程都是自动化的。此外,该系统还能将
液氮罐
周围区域的气体从设备内部排出,以维持冷却时间和样品温度。
它可以在-120°C下处理8小时。
通过插入和移除冷却导体来控制冷却温度,可以减少液氮的消耗。
样品可以在液氮仍在样品内部的情况下进行更换。
规格和选项
请查看我们的产品目录。
目录下载
IB-19540CP/IB-19550CCP 横截面抛光机™

