江西代理日本RYOKOSHA照度计IM-1000
照度计
(1)拓普康科技大厦
IM-1000
显色光度计(光谱光度计)
支持2到1,000,000 lx的宽动态范围,可用于从建筑相关辐照度检查和安装到照明设备制造商开发和生产线检测的广泛应用它是一种便携式彩色渲染光度计,可以在流行的价格范围内使用。
(2)拓普康科技大厦
IM-2D / IM-600 / IM-600M·UVR-300 / UVR-T1·PU-21 / FI-51L / FI-51 S
照度计·紫外线强度计·紫外线灯
显示范围:0.005~9999,900(lx )
E试验机
1;硬度测试仪
(1)曝光装置
尼康工程
Mini-stepper NES1-h04
投影曝光系统实现世界上小的占地面积缩小的投影曝光系统针对MEMS制造
进行了优化配备了针对MEMS优化的新开发的投影镜头
□世界上小的占地面积
□可安装背面对准机构(选项)
□批量生产的吞吐量
(2)尼康工程
NES1-h02
还原投影曝光系统紧凑,经济的曝光系统,具有缩小投影功能。
□显着提高吞吐量
□配备新开发的投影镜头
□采用离轴对中方式
(3)
缩小投影曝光系统(迷你步进)
NES2-h04/h06
1.深度关注边际
我们采用适用于MEMS的NA投影镜头,实现深焦距。对应厚膜抗蚀剂和高台阶。此外,
步进方法的优点和晶片抽吸机构的优化提高了具有大翘曲的晶片的产量。
2.高精度背面对齐(OP)
根据晶片背面的对准标记,可以以0.8μm(1×1 +3σ)对准精度的非常高的精度进行曝光。
3.与NSR混合搭配
NES 2-h06的曝光范围为22 mm x 22 mm,相当于尼康NSR批处理系统。此外,可以使用NSR中使用的FIA标记(XY同时测量兼容版本)进行对齐。我们使混合和匹配变得容易。
NES1-h04
1.针对MEMS优化的新开发的投影镜头
它具有2.0μmL/ S的分辨率和15 mm x 15 mm的曝光面积,可实现MEMS制造所需的高性能。同时,NA(数值孔径)优化确保了非常深的聚焦余量。我们已经能够处理厚膜抗蚀剂和高水平差异。
2.实现世界上小的足迹
通过将控制系统整合到车身中,实现了1.3平方米(无选项)的惊人的小占地面积。即使使用晶圆装载机,空间也为1.9平方米,有助于提高洁净室空间利用率并降低运行成本。
3.可以安装背面对齐机构(可选)
可以根据晶片背面的对准标记以0.8μm(IXI +3σ)的对准精度进行曝光。
显着提高吞吐量
基本性能得到了极大的提高,例如通过回顾舞台控制方法进一步加快,采用新设计的非常明亮的照明系统增加投影平面照明,并采用闪光光源,从而显着提高吞吐量。这是。
配备新开发的投影镜头
安装了一个新的投影镜头,其曝光面积比前一个更大,NA为0.16和φ11。通过采用离轴对准方法,确保了投影镜头的设计自由度,并且还制造了根据客户要求定制的投影镜头。
采用离轴对准方式
配备对准光学系统和高刚性的机身,确保相同或更高的对准精度。此外,与TTR方法相比,减少了掩模版设计约束。
操作简便
我们采用Windows®XPfor OS,实现良好的可操作性。使用与PrA系列曝光系统相同的菜单配置,已经使用该系列的客户可以在没有不适的情况下操作。
节省空间,尺寸紧凑
与流行的PrA系列曝光系统类似,它具有非常紧凑的设计。
安装,缩短启动时间
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照度计
(1)拓普康科技大厦
IM-1000
显色光度计(光谱光度计)
支持2到1,000,000 lx的宽动态范围,可用于从建筑相关辐照度检查和安装到照明设备制造商开发和生产线检测的广泛应用它是一种便携式彩色渲染光度计,可以在流行的价格范围内使用。
(2)拓普康科技大厦
IM-2D / IM-600 / IM-600M·UVR-300 / UVR-T1·PU-21 / FI-51L / FI-51 S
照度计·紫外线强度计·紫外线灯
显示范围:0.005~9999,900(lx )
E试验机
1;硬度测试仪
(1)曝光装置
尼康工程
Mini-stepper NES1-h04
投影曝光系统实现世界上小的占地面积缩小的投影曝光系统针对MEMS制造
进行了优化配备了针对MEMS优化的新开发的投影镜头
□世界上小的占地面积
□可安装背面对准机构(选项)
□批量生产的吞吐量
(2)尼康工程
NES1-h02
还原投影曝光系统紧凑,经济的曝光系统,具有缩小投影功能。
□显着提高吞吐量
□配备新开发的投影镜头
□采用离轴对中方式
(3)
缩小投影曝光系统(迷你步进)
NES2-h04/h06
1.深度关注边际
我们采用适用于MEMS的NA投影镜头,实现深焦距。对应厚膜抗蚀剂和高台阶。此外,
步进方法的优点和晶片抽吸机构的优化提高了具有大翘曲的晶片的产量。
2.高精度背面对齐(OP)
根据晶片背面的对准标记,可以以0.8μm(1×1 +3σ)对准精度的非常高的精度进行曝光。
3.与NSR混合搭配
NES 2-h06的曝光范围为22 mm x 22 mm,相当于尼康NSR批处理系统。此外,可以使用NSR中使用的FIA标记(XY同时测量兼容版本)进行对齐。我们使混合和匹配变得容易。
NES1-h04
1.针对MEMS优化的新开发的投影镜头
它具有2.0μmL/ S的分辨率和15 mm x 15 mm的曝光面积,可实现MEMS制造所需的高性能。同时,NA(数值孔径)优化确保了非常深的聚焦余量。我们已经能够处理厚膜抗蚀剂和高水平差异。
2.实现世界上小的足迹
通过将控制系统整合到车身中,实现了1.3平方米(无选项)的惊人的小占地面积。即使使用晶圆装载机,空间也为1.9平方米,有助于提高洁净室空间利用率并降低运行成本。
3.可以安装背面对齐机构(可选)
可以根据晶片背面的对准标记以0.8μm(IXI +3σ)的对准精度进行曝光。
NES1-h02
显着提高吞吐量
基本性能得到了极大的提高,例如通过回顾舞台控制方法进一步加快,采用新设计的非常明亮的照明系统增加投影平面照明,并采用闪光光源,从而显着提高吞吐量。这是。
配备新开发的投影镜头
安装了一个新的投影镜头,其曝光面积比前一个更大,NA为0.16和φ11。通过采用离轴对准方法,确保了投影镜头的设计自由度,并且还制造了根据客户要求定制的投影镜头。
采用离轴对准方式
配备对准光学系统和高刚性的机身,确保相同或更高的对准精度。此外,与TTR方法相比,减少了掩模版设计约束。
操作简便
我们采用Windows®XPfor OS,实现良好的可操作性。使用与PrA系列曝光系统相同的菜单配置,已经使用该系列的客户可以在没有不适的情况下操作。
节省空间,尺寸紧凑
与流行的PrA系列曝光系统类似,它具有非常紧凑的设计。
安装,缩短启动时间