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日本Otsuka大塚电子 MINUK光波动场三次元显微镜

2026/08/03 17:35:46

Otsuka大塚电子 MINUK光波动场三次元显微镜

MINUK 是日本大塚电子（OTSUKA）于2024年4月发布的一款光波动场三次元显微镜（3D Optical Wave Field Microscope）。它的核心技术是无需传统成像透镜，直接记录样品的光波信息，从而实现对透明/半透明材料内部纳米级缺陷和三维结构的非破坏、非接触、非侵入式观测。

核心特点

无需对焦，一次成像：解决了传统显微镜需要反复对焦的痛点。单次拍摄即可获取深度方向（Z轴）的信息，相当于一次获得数千张传统图像的数据量。
大视野与高分辨率并存：单次拍摄即可覆盖700×700μm的宽广视野，平面（X-Y）分辨率*可达488nm ，深度（Z轴）分辨率高达10nm 。
“光波场”观测技术：无需成像透镜，解决了像差问题。通过捕捉激光穿过样品时因厚度和折射率变化而产生的波面变化，再经算法重构出三维图像。
“数字重聚焦”功能：测量后可在软件中对任意深度和位置进行重新对焦，便于对样品的三维结构进行灵活的追加验证和分析。

规格参数

项目	规格参数
分辨率 (X, Y)	691 nm (单次拍照) 488 nm (合成)
视野 (X, Y)	700 × 700 μm
分辨率 (Z)	10 nm (相位差)
视野 (Z)	±700 μm
样品尺寸	100 × 80 × t20 mm (使用通用样品架时)
激光	波长 638 nm 输出 0.39 mW 以下 (Class 1)
主机尺寸	505 (W) × 630 (D) × 439 (H) mm
主机重量	41 kg
功耗	290 VA (本体)

工作原理

照射：用638nm的激光照射样品。
感知：当光穿过样品时，其波面会因样品的厚度和折射率变化而发生改变。
捕捉：一个波前传感器（Wavefront Sensor）会捕捉这种光波场的变化。
重构：*，通过大塚电子独有的软件进行数值解析，将捕捉到的光波信息重建成清晰的三维图像。

应用领域

半导体与显示面板：检测透明薄膜、晶圆表面的纳米级划痕、缺陷和异物。
新材料与高分子：观察透明或半透明材料内部的填充物、气泡、相分离结构等。
精密制造与质检：对光学元件、玻璃、涂层等进行非破坏性的三维结构分析与质量控制。

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