山金供货 JEOL日本电子 BS-60250DEM 高速金属厚膜沉积的电子枪

BS-60250DEM 电子枪
BS-60250DEM 电子枪
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该设备是一款适用于高速金属厚膜沉积的电子枪。
它标配长寿命灯丝，支持在Φ50mm范围内500Hz或更高的高速电子束扫描，*输出功率为16kW。此外，电子枪顶部表面无结构设计，减少了蒸汽积聚，便于维护。
特征
BS-60250DEM的主要特点
支持16kW输出（兼容高速沉积）。
*输出功率为16kW（10kV，1.6A），可实现金属薄膜的高速沉积。
长寿命耗材为标准配置；
长寿命耗材作为标准配置，有利于延长维护周期。
它支持大容量坩埚
，标配支持 φ50mm 坩埚，使用可选的极柱 BS-60830PP250* 也可处理 φ70mm、100mL 或更大的坩埚。
*) 光束移动和扫描范围为 φ50mm。
新开发的扫描线圈支持 500Hz 或更高的高速电子束扫描
，提高了电子束扫描性能，使可升华材料能够获得均匀的蒸发表面，并使其适用于氧化物沉积。
平顶表面结构（用于降低薄膜粘附效应的结构）
兼容大容量坩埚
通过使用的可选长杆件，它可以容纳直径为 φ70mm、容量为 100mL 或更大的大容量坩埚。
可维护性
电子枪顶部的扁平结构减少了薄膜的堆积，降低了维护频率。

放电抑制结构兼容
该结构可以缓解电子枪内部压力的快速升高，从而抑制放电的产生。
低真空放电电阻测试结果
测试条件
工作压力：恒定 0.15 Pa（通入氩气）
光束输出：10kV（8kV），0.3A，10分钟
束流辐照材料：W(BS-60250DEM) Ta2O5（常规电子枪）
电子枪电源：JST-16F/ST-AS10F
各种金属薄膜的沉积速率
高功率、高聚焦电子束能够实现各种金属薄膜的高速沉积。

使用大容量坩埚进行高速率铝沉积的实例
与大容量坩埚结合使用，可以进一步提高沉积速率。

熔融二氧化硅颗粒的形状
利用新开发的大直径扫描线圈进行高速光束扫描，可实现介电材料的均匀熔化表面。

束流照射条件
输出功率：1.8kW（10kV，0.18A）
光束照射时间：5分钟
扫描方式：圆形扫描模式（ICE电源标准功能）
光束扫描范围：φ50mm
径向扫描频率：135Hz
周向扫描频率：570Hz
规格和选项