山金供货 JEOL日本电子 BS-60070DEBS 电子束沉积的电子枪

2026/09/16 14:26:17

这是用于电子束沉积的电子枪（偏转式），用于形成各种薄膜，如光学薄膜和电极薄膜。
特征
电子束沉积的特点
由于蒸发材料是通过电子束直接照射加热的，因此具有很高的热效率，可以蒸发各种材料，包括高熔点金属、氧化物、化合物和升华材料。
由于水冷铜坩埚（*）内的蒸发物直接受热，因此不会像电阻加热或感应加热那样与舟形坩埚发生反应。
*也可使用炉底衬里。
由于它能够实现高速输出控制，因此可以控制薄膜厚度。
与溅射和化学气相沉积法相比，其主要优势在于能够实现高速薄膜沉积。
此外，它还能有效制备厚度为1微米或以上的薄膜。
JEOL电子枪和电源的特点
[氧化物]
电子束垂直照射蒸发材料，形成近乎*的圆形光斑，且具有高能量密度。此外，该设备标配高速扫描功能，使其适用于在氧化物和高熔点、低导热系数的升华材料上进行沉积。可获得良好的熔融痕迹，并在大面积沉积区域内获得可重复的薄膜厚度分布。
[金属]
我们提供多种坩埚，可实现多类型、大批量、高速率的沉积。此外，我们还提供用于剥离工艺的电子枪，可抑制薄膜沉积过程中的温度升高。
【合金与复合薄膜】
通过在两个或三个相邻的坩埚中填充不同的材料，可以使用扫描控制器同时进行双向或三向沉积，从而形成合金薄膜和复合薄膜。
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所属分类：
JEOL 日本电子
发布时间： 2026-07-03

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详细介绍

规格和选项

模型	*输出	偏转角	灯丝	光束扫描	坩	氧化物	金属
BS-60070DEBS	6.4千瓦	270°	U形（长寿命）	高速扫描	无*2	◎	○
BS-60060DEBS	6.4千瓦	270°			无*2	◎	○
BS-60050EBS	10千瓦	270°			无*2	◎	○
BS-60040VDGN	10千瓦	270°			无*2	◎	○
BS-60030DGN	10千瓦	270°			无*2	◎	○
EBG-102UB6S	10千瓦	180°	螺旋形		12毫升 x 6点	◎	○
EBG-102UB4S	10千瓦	180°			12cc×4点	◎	○
JEBG-102UH0	10千瓦	180°			无*2	◎	○
BS-60210DEM + BS-60140H4H	10千瓦	270°	直卷式（使用寿命长）	中速扫描	40cc×4点	△	◎
BS-60210DEM + BS-60150H6H	10千瓦	270°	直卷式（使用寿命长）	中速扫描	40cc×6点	△	◎
EBG-203UB6S	20kW *1	270°	螺旋形	高速扫描	12毫升 x 6点*3	○	◎
EBG-203UB4H	20kW *1	270°			12cc x 2 分 28cc （半球形）x 2 分	○	◎
JEBG-203UA0	20kW *1	270°			无*4	○	◎
JEBG-303UA	30kW *1	270°			无*5	○	◎

由于 EB 电源的*输出功率为 16kW，因此*可用输出功率为 16kW。
可接受定制订单 ⇒ 12cc x 4 或 6 瓶等。
坩埚孔形状可以改变 ⇒ 28cc (φ45×20h) × 6 个点，51cc (φ60×20h) × 3 个点，等等。
可接受定制订单 ⇒ 40cc (φ50×25h) × 4 或 6 件，114cc (φ75×30h) × 1 件，等等。
可提供定制坩埚 ⇒ 114cc (φ75×30h) × 1 个，φ34×20h × 3 个孔（用于同时沉积），φ70×30h × 4 个，等等。
请咨询坩埚规格。

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