山金全新 JEOL日本电子 SB-89010EUVC 准分子紫外线清洗机

2026/09/16 14:20:28

特征
兼容150mm晶圆
在涂覆光刻胶之前，请清洁材料表面。
去除材料表面的有机物。
提高材料与光刻胶之间的粘合力（*并非所有情况下都能保证提高）
由于处于真空环境，臭氧生成量极小。
臭氧生成速率：0.0012 mg/min。
设备周围臭氧浓度：0.01 ppm。

准分子紫外线清洗机利用氙 (Xe) 激发二聚体（准分子）发射的波长为 172 nm 的紫外线，去除晶圆表面的有机化合物污渍。

清除抵抗力残留物
蚀刻前进行清洗可以去除晶圆表面的残留光刻胶。

清洁前

正性光刻胶，厚度400nm
清洁后

照射20分钟

有关使用准分子紫外线清洗机进行样品清洗/亲水化处理的机理信息，

所属分类：
JEOL 日本电子
发布时间： 2026-07-03

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详细介绍

规格和选项

紫外线照射			波长 172 纳米
*样本量			152.4 毫米（宽）× 154.2 毫米（深）× 60 毫米（高）
*样品质量			1公斤
照射时间设置			10秒到99分钟
真空泵			隔膜式干式真空泵
安装条件	电源		单相 90-110 伏，50/60 赫兹，500 伏安
	尺寸和重量（不含电缆和真空管道）	主机	尺寸：43厘米（宽）× 44厘米（深）× 31厘米（高），重量：约22公斤
	尺寸和重量（不含电缆和真空管道）	真空泵	尺寸：17厘米（宽）× 33厘米（深）× 22厘米（高），约8公斤
	室温		15至30摄氏度
	湿度		相对湿度60%或更低（无冷凝）
定期更换部件（累计辐照1000小时后更换）			紫外线灯、真空计、O型圈等。

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