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首页 >玉崎半导体(深圳)有限公司> 技术文章> FLUORO 福乐 F007 耐化学腐蚀真空吸笔 完

FLUORO 福乐 F007 耐化学腐蚀真空吸笔 完

2026/07/06 19:36:49

一、产品基础概述

1. 与定位

FLUORO(福乐,日本 Furoro Mechanic)F007 属于F 系列全氟树脂耐药液真空吸笔,是专为半导体湿法蚀刻、酸碱清洗、药液浸泡工序开发的真空拾取工具,行业俗称弹出释放型防腐真空镊子。区别于普通导电尼龙 C 系列吸笔,F007 整机接触介质部件全部采用 PTFE 氟树脂,可长期浸泡强酸、强碱、光刻有机溶剂、蚀刻液,解决普通吸笔腐蚀、溶胀、析出颗粒污染晶圆的痛点;核心阀门逻辑为常态吸附、按压吹气弹出释放(DuoVac 双向气路),薄晶圆、薄芯片卸料无撞击、无崩边,是湿法工艺型号。

2. 标准型号命名释义(示例:F007-46-X)

  • F007:阀体型号(按压吹气释放)

  • 46:吸杆长度规格(21/30/46/54mm 多长度可选)

  • X:万向旋转接头(360° 可调);Y 为直插固定接头

3. 配套设备

需搭配原厂 FV-W 系列无油隔膜真空泵(双向吸气 / 吹气双路输出),不可单用普通单负压真空泵。

二、核心材质与耐化学腐蚀技术体系

1. 整机防腐材质配置

  1. 笔身主体、阀芯、内部气路腔体:4F-PTFE(特氟龙氟树脂)

    • 耐蚀性能:耐受 HF 氢氟酸、盐酸、硫酸、硝酸、氨水、IPA 丙酮、光刻剥离液、各类显影蚀刻药液;不会被化学介质溶胀、开裂、析出有机物杂质,杜绝晶圆表面白点、颗粒污染。

    • 工艺优势:腔体镜面抛光,气路无死角,药液残留易冲洗,发尘量极低,满足百级 / 千级洁净室标准。

  2. 吸嘴 / 吸盘:导电 PEEK 树脂

    • 兼具耐化学腐蚀、高机械强度、耐高温;表面镜面热处理,柔软不划伤晶圆镀膜、光刻胶层;导电性能 10⁶~10⁸Ω,同步消除静电击穿风险。

  3. 密封阀片、管路接头:氟橡胶 FKM长期浸泡药液不老化、不渗漏,任意手持角度无漏液倒灌进真空泵。

  4. 外层握持辅助件:导电改性 PTFE持续导出人体静电,ESD 安全,避免芯片、晶圆静电击穿报废。

2. 防腐核心技术亮点

  1. 全流道无金属裸露:无不锈钢阀芯、金属弹簧接触药液,杜绝金属离子析出污染半导体基板;

  2. 一体成型氟树脂阀体:无粘接缝隙,药液无法渗入内部腐蚀结构;

  3. 耐温区间:-20℃~180℃,冷热药液交替清洗不会变形开裂。

三、真空吹气双路阀体核心工作原理(F007 独有 DuoVac 结构)

  1. 常态未按压:持续负压吸附工件,真空稳定抓取晶圆 / 芯片,可手持浸入药液槽转移;

  2. 按下顶部按钮:切断负压,同步通入正压洁净干燥氮气 / 空气,气流弹出工件,无撞击式卸料;

  3. 松开按钮:自动切换回负压吸附状态,连续取片无需反复启停真空泵。对比同系列其他型号:

  • F001:按吸松放(单负压,无吹气),干法通用;

  • F002:常吸按断气,无吹气,适合厚晶圆;

  • F007:负压吸附 + 正压弹出双路,薄 / 易碎件湿法。

四、关键技术参数

  1. 真空负压区间:0 ~ -80kPa,可通过真空泵调压阀无级微调吸力,适配 0.05g~300g 工件;

  2. 吹气正压:0.02~0.05MPa 低压柔和气流,不会冲飞薄晶圆;

  3. 机身重量:24g 轻量化氟树脂机身,长时间手持作业不易疲劳;

  4. 兼容管路:Φ3×5、Φ4×6 氟塑料真空软管;

  5. 适配工件尺寸:2 寸~12 寸硅晶圆、玻璃基板、01005~30mm 各类芯片、光学薄片;

  6. 吸嘴可选类型:圆形小孔吸盘、长条多孔晶圆吸盘、环形中空吸嘴、微型尖头吸嘴。

五、产品五大核心优势

1. *耐化学腐蚀,湿法工序

全 PTFE 接触介质结构,可长期浸泡蚀刻槽、清洗槽、剥离药液槽,普通尼龙 / 金属吸笔短期使用即腐蚀掉屑、污染晶圆,F007 无此问题,大幅降低报废率。

2. 吹气弹出卸料,薄易碎件零损伤

传统断气释放仅靠自重掉落,薄硅片、光学薄片易崩边、划伤;F007 低压柔和气流均匀推开工件,贴合台面缓慢落片,适配薄晶圆、软膜基板。

3. ESD 防静电一体化防护

整机导电氟树脂 + 导电 PEEK 吸嘴组合,全程导出静电,湿法高湿度环境下依然稳定控静电,杜绝 CMOS 芯片、光刻胶静电击穿。

4. 洁净低发尘,适配半导体无尘车间

阀体镜面抛光、氟树脂无填料析出,拆解清洗简单,超声清洗无掉粉,符合半导体、光伏、生物实验室洁净管控标准。

5. 灵活适配多工况

  • X 万向接头:360° 旋转,深腔药液槽、立式清洗机狭小空间取片;

  • 多长度吸杆可选:21/30/46/54mm 适配不同药液槽深度;

  • 吸嘴全规格覆盖:微小芯片到大尺寸晶圆通用,可单独更换吸嘴降低耗材成本。

六、典型应用场景

  1. 半导体晶圆湿法工艺:硅片蚀刻、光刻胶剥离、酸碱清洗、晶圆镀膜前药液转移、薄 8/12 寸薄晶圆搬运;

  2. 光伏行业:玻璃基板、硅片药液槽取放、镀膜前清洗工序;

  3. 光学精密制造:光学滤光片、玻璃镜片酸碱清洗、镀膜前无尘转移;

  4. 生物医疗实验室:生物芯片、载玻片腐蚀清洗、微量样品无尘拾取;

  5. 精密电子封装:LED、功率芯片、软基板药液清洗转移。


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