涂装设备基础知识

涂覆装置是将化学品或其他物质涂覆到产品或材料上的装置。

通用涂装设备根据被涂物体的形状、所用化学品和涂装目的，采用多种不同的涂装方法。这些方法包括辊涂、旋涂、浸涂、喷涂和点涂，并应用于各种领域。

近年来，在半导体制造、平板显示器（FPD）制造、太阳能电池和二次电池制造等工业领域，对涂层精度提出了更高的要求，这促使涂层技术和涂层设备取得了巨大的进步。

涂层设备的应用
涂覆设备广泛应用于各种制造工艺中，例如半导体和二次电池行业，用于在物体表面涂覆涂层。旋涂设备常用于光刻工艺中涂覆光刻胶，尤其是在半导体制造和平板显示器（FPD）制造领域，这些领域对个人电脑、液晶电视、智能手机和平板电脑等产品所需的轻薄、高性能和高密度设计有着迫切的需求。

对于用于二次电池、太阳能电池、汽车零部件、建筑材料、纺织品和医疗应用的功能性薄膜和片状产品，使用辊涂设备、喷涂设备和点涂设备来涂覆密封剂、粘合剂和电极材料等化学品。

涂层装置的原理
涂布设备用于将各种材料（包括化学溶液）涂覆到产品上。它大致可分为辊涂、旋涂、喷涂和点涂。

1. 辊式涂布装置
辊式涂布设备通常用于涂布相对较薄、平坦的材料，例如薄膜和片材。

根据涂布液的性质和粘度以及所需的膜厚，可采用不同的涂布方法。这些方法包括凹版涂布机和反向涂布机，它们利用与涂布液槽接触的辊筒旋转以及材料（例如薄膜或片材）的卷绕旋转进行涂布。

这种方法可以实现卷对卷涂布，是高速涂布*适用的方法。其特点是在涂布液与被涂布物之间形成液珠，当被涂布物或被涂布物与辊筒同时移动或旋转时，涂布液会受到剪切力的作用，从而形成薄涂层。

稳定这种珠状物对于获得高质量涂层至关重要。

2. 旋涂装置
旋涂系统是一种采用涂覆方法的设备，其中用于半导体制造和 FPD（平板显示器）制造的光刻工艺的光刻胶被涂覆到旋转台上的产品上，然后旋转台产生的离心力将化学溶液扩散开来形成薄膜。

这种方法可以实现*薄的涂层，但不适合大规模生产，因为它不能对多张片材进行涂层，也不能进行连续生产。

3.喷涂装置
喷涂设备是一种将涂料通过喷雾的方式，将化学溶液转化为细小颗粒，从而将涂料涂覆到汽车、建筑外墙材料和其他表面上的设备。当待涂覆物体尺寸较大时，它利用机器人的大范围运动，采用高精度、大面积的涂覆方法。

产生颗粒喷雾的方法有三种：利用空气、电力和超声波。

4. 浸涂装置
浸涂设备的工作原理是将物体（无论形状如何）浸入浸涂溶液中，然后再将其取出。它可以形成均匀的薄膜，广泛应用于光学镜头、医疗器械和电子设备等领域。

浸涂装置的关键特点是无论被涂覆物体的形状如何，都能形成均匀的薄膜，且涂覆液的损失极小。

5. 分配装置
点胶装置适用于需要相对的线性涂覆的场合。它们配备点胶机构，可以控制涂覆量；对于更的涂覆，它们还采用机器人系统，以实现涂覆量的控制。虽然涂覆速度可能较低，但它们能够对小面积区域进行点涂，并形成复杂形状的涂层。