日本SENUV紫外光表面清洗机PL17-110 

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紫外线表面清洗

作者 SEN特殊光源株式会社社长菊池清 

１紫外线表面清洗

紫外线表面清洗是近年来新兴的清洗方法。紫外线表面清洗法不同于原有清洗法，没有污水，污气产生。是高能环保型清洗杀菌方法。广泛运用于LCD,PCB，点子，印刷，塑胶，玻璃，涂装等领域。

紫外线清洗是是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除附着在材料表面的有机物质。经过广清洗后的材料表面可以达到高清洁度。

其主要原理为紫外线灯发出的 185nm波长和254nm波长具有很高的能量，高于大多数有机物的结合能量。由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力，并且可以在吸收185nm波长后分解成例子，流利态子，受激分子和中子等，这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后，会产生臭氧和氧气，臭氧对254nm波长具有很强的吸收性，臭氧有可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有极强的氧化性，可以将碳氢化合键切断，生成水，二氧化碳等易挥发气体，从被照射物表面飘逸出，清除物体表面的污染物。这就是紫外线清洗的原理。

清洗法有干洗和湿洗两种。干洗有UV臭氧清洗，等离子清洗，离子清洗等。湿洗有水洗，碱清洗，酸清洗，液体喷射清洗等。我们日常所熟悉的湿式清洗有可以清洗掉较大范围污染的优点。但是也会有清洗不掉的污染。同时由于清洗的溶剂会在被清洗物表面残留，因此对于高精密世界来说也是个污染。

与此相反UV紫外线清洗虽然不能清洗掉大范围的污染，却可以清洗到各个角落的就是光洗净技术（以下简称UV臭氧清洗）。在纳米技术世界里，我们虽然看不到有机性污染，但是有机污染在表面形成膜（软接着层）如果在这层膜上印刷的话，就会出现鲜度恶化以及针孔等障碍。UV臭氧清洗可以去除的污染有有机化合物以及含有油脂的污染等。