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EUV400N低压清洗杀菌汞灯日本

2019/12/27 20:05:06 发布厂商:深圳京都玉崎电子有限公司 >> 进入该公司展台 已浏览:

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日本SENUV紫外光表面固化设备HL1000HL1000紫外光表面固化设备日本SENLIGHTS

UVL6UH2低压清洗杀菌汞灯日本

产品描述



品   名

功 率(W)

全长(mm)

发光长(mm)

UVL6D

6

230

130

UVL6UH2

(6)

72

40

UVL8D

8

280

170

UVL10D

10

320

200

UVL15D

15

360

250

UVL20D

20

420

280

UVL20U

(20)

215

140

UVL20P

(20)

170

120

SUV40

40

530

380

SUV40U

40

275

200

SUV40G

40


66×70

SUV70D

70

730

580

SUV90D

90

1030

880

SUV90U

90

530

453

SUV110D

110

1250

1100

SUV110U

110

640

563

SUV110W

110

1650

1500

SUV110G

110

815

730

SUV110P

110



EUV200D

200



EUV200U

200



EUV200N

200



EUV200W

200

1010

925

EUV200P

200



EUV250D

250



EUV250U

250



EUV250N

250

1195

1110

EUV250W

250



EUV300D

300



EUV300U

300

3150

3000

EUV300N

300

1565

1480

EUV300W

300



EUV400D

400



EUV400U

400



EUV400N

400



EUV400W

400



产品描述


EUV400N低压清洗杀菌汞灯日本


我司*生产低压汞灯,高压汞灯, UV清洗灯,UV固化灯,各种大型光清洗机,桌上型清洗机,大型光固化机,桌上型固化机,手提式固化机,UV紫外线臭氧杀菌机等各种紫外线臭氧产品。


40多年的*生产使我们的UV灯具有照度高,照度均匀,使用寿命长等特点。


的技术为您提供世界上*快的咨询。强大的开发团队为您量身定做*适合的设备。快速的技术支持为您解决一切难题。优质的售后服务能为您排除一切后顾之忧。日本直接进口使您得到 惠的价格。


紫外线表面清洗

作者 SEN特殊光源株式会社社长菊池清 


紫外线表面清洗

紫外线表面清洗是近年来新兴的清洗方法。紫外线表面清洗法不同于原有清洗法,没有污水,污气产生。是高能环保型清洗杀菌方法。广泛运用于LCD,PCB,点子,印刷,塑胶,玻璃,涂装等领域。


紫外线清洗是是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除附着在材料表面的有机物质。经过广清洗后的材料表面可以达到高清洁度。


其主要原理为紫外线灯发出的 185nm波长和254nm波长具有很高的能量,高于大多数有机物的结合能量。由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力,并且可以在吸收185nm波长后分解成例子,流利态院子,受激分子和中子等,这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后,会产生臭氧和氧气,臭氧对254nm波长具有很强的吸收性,臭氧有可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有极强的氧化性,可以将碳氢化合键切断,生成水,二氧化碳等易挥发气体,从被照射物表面飘逸出,清除物体表面的污染物。这就是紫外线清洗的原理。


清洗法有干洗和湿洗两种。干洗有UV臭氧清洗,等离子清洗,离子清洗等。湿洗有水洗,碱清洗,酸清洗,液体喷射清洗等。我们日常所熟悉的湿式清洗有可以清洗掉较大范围污染的优点。但是也会有清洗不掉的污染。同时由于清洗的溶剂会在被清洗物表面残留,因此对于高精密世界来说也是个污染。


与此相反UV紫外线清洗虽然不能清洗掉大范围的污染,却可以清洗到各个角落的就是光洗净技术(以下简称UV臭氧清洗)。在纳米技术世界里,我们虽然看不到有机性污染,但是有机污染在表面形成膜(软接着层)如果在这层膜上印刷的话,就会出现鲜度恶化以及针孔等障碍。UV臭氧清洗可以去除的污染有有机化合物以及含有油脂的污染等。




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